进博会中国馆里，上海微电子装备集团（SMEE）展台，由该集团自主研发的光刻机“全解剖”摆了出来：外壳做成透明剖视，光路怎么走、工件台怎么动、物镜装在哪，一目了然。
据了解，这两款机型分别是SSC800，用KrF光源；SSB800（模型）用I-line光源。上海微电子装备集团表示，在售的SSC800系列KrF与SSB800系列I-line机型，基于自研双工件台平台，均搭载国产自主大NA物镜，关键曝光成像指标对标国际标杆，而SSC800整体性能更是跻身行业第一梯队。
在为国产光刻机成绩骄傲的同时，我们不禁要追问：它做的是哪类芯片？产线上跑得怎么样？
据悉，SSB800走的是I-line路线，覆盖280nm及以上制程，主战场是功率半导体、模拟IC和MEMS；SSC800用的是KrF光源，覆盖110nm及以上，主要做存储、微处理器和MicroLED。
两款机型都是干式机，主要服务于成熟制程大盘，并非当前被“卡脖子”的浸没式和EUV型光刻机。
不过，业界专家提示，千万别因此小看了它们——
如果说先进制程决定芯片产业“天花板”，那么成熟制程则决定芯片产业的“地板”。功率器件、模拟芯片、MCU、电源管理、车规芯片、MicroLED驱动、存储外围电路……它们撑起了日常电子世界的芯片“地板”。
特别值得关注的是3项数据：关键零部件国产化率突破90%；已完成定型并规模化量产，累计支持产线流片超1000万片；设备有效运行率超92%——展出设备用千万片流片的稳定数据，夯实了芯片产业的“地基”。
当前，中国集成电路拥有从设计、制造到封测的全球少有全链条能力。28nm及以上成熟制程的中国产能全球占比接近30%，而全球70%的芯片应用需求集中在成熟工艺领域。
数据显示，今年7月份，我国规模以上工业企业集成电路产量达530亿块，相当于日均生产约17亿块芯片；今年前7个月，我国集成电路出口总额达2160亿美元，同比增长99.5%，已超2025年全年2019亿美元的出口总额。
当先进制程重点布局转向高端AI芯片，深耕成熟工艺、产能稳定的中国厂商正好接住了这波全球刚需。
但业界专家指出，也要看到短板和不足：浸没式ArF和EUV是需要继续攻坚的关口，光刻胶、光掩模版等材料问题亟须破局……
保持清醒，积蓄后劲，“中国芯”必将从世界工厂迈向全球科技和产业高地，真正实现由大变强。
来源：光明日报全媒体记者 张晓华
图片：中新经纬
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